高(gao)純鎢濺(jian)射(she)靶材(cai) 高純鎢濺射靶材(cai)可用于製作半(ban)導體(ti)芯(xin)片層間(jian)通(tong)孔（Via）咊(he)接(jie)觸(chu)孔(kong)（Contact）的(de)填充(chong)物，即(ji)鎢(wu)塞(sai)(WPlug)。牌(pai)號純(chun)度(wt%)密(mi)度(du)(%)晶(jing)粒度(du)(μm)尺寸(cun)(max.mm)麤糙(cao)度RaHW4N599.995≥19.1850?450×10≤1.6HW5N99.9
高純鎢(wu)濺(jian)射靶材(cai)
高純鎢濺射(she)靶(ba)材可用于(yu)製作(zuo)半(ban)導(dao)體芯片(pian)層(ceng)間(jian)通(tong)孔(kong)（Via）咊接觸孔(kong)（Contact）的(de)填(tian)充(chong)物，即鎢塞(sai)(WPlug)。
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牌(pai)號 |
純(chun)度(du)(wt%) |
密度(%) |
晶粒(li)度(du)(μm) |
尺寸(max.mm) |
麤(cu)糙度Ra |
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HW4N5 |
99.995 |
≥19.18 |
50 |
?450×10 |
≤1.6 |
|
HW5N |
99.999 |
≥19.18 |
50 |
?450×10 |
≤1.6 |
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